IT之家 6 月 5 日新闻，据璞璘科技 (PRINANO) 新闻，该企业近日与客户力策科技合作，选取真空气压式晶圆级 NIL（纳米压�。┩及富璞� PL-AS，共同定造化双层压印胶资料系统与主题工艺，齐全绕开 DUV 光刻路线实现 8 英寸光芯片晶圆可规�；坎�，并将芯片造作成本压缩至传统 DUV 规划的 1/10。
IT之家相识到，PL-AS 机台支持＜10nm 的线宽分辨率，晶圆整面压印压力均匀性误差低于 0.5%，支持无残存层压印工艺，对准精度可定造至百纳米级。同时其支吃旖面或曲面衬底，兼容硬质与柔性模板。
相较传统的辊压法晶圆级 NIL，PL-AS 通过面施力保险晶圆上每一个纳米级单元受力齐全一致，将 RLT 误差节造到＜2nm，同时其吞吐量显著高于步进式的佳能 NIL 设备。
此表，璞璘 PL-AS 作为气压式设备结构较 DUV 更为单一，无需昂贵的光学系统，还能够使用寿命更长的复合模板，这是其具备显著成本优势的原因。
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